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地殼里各種元素的含量(質量分數)中,含量最多的元素是               元素,含量最多的金屬元素是              元素,含量最多的非金屬元素是             元素。
氧;鋁;氧
練習冊系列答案
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科目:初中化學 來源: 題型:

從20世紀中葉開始,硅成了信息技術的關鍵材料,是目前應用最多的半導體材料.請回答-下列問題:
(1)地殼里各種元素的含量(質量分數)如右圖所示,其中表示硅元素的是
 
(填字母).
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(2)根據元素周期表可知,原子序數為6的碳原子和原子序數為14的硅原子最外層電子數均為4,則常溫下硅的化學性質
 
(選填“活潑”、“不活潑”).
(3)制備硅半導體材料必須先得到高純硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法.生產過程示意如下:
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①整個制備過程必須達到無水無氧.在H2還原SiHCl3過程中若混入O2,可能引起的后果是
 

②由粗硅制取三氯甲硅烷的化學方程式為
 

③在生產過程中物質A可循環使用,A的化學式是
 
;在生產過程中還有一種可循環使用的物質是
 

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科目:初中化學 來源: 題型:

2、地球是人類的家園.地殼里各種元素的含量差別很大,按質量計,含量最多的元素是(  )

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科目:初中化學 來源: 題型:

(2009?南京)從20世紀中葉開始,硅成了信息技術的關鍵材料,是目前應用最多的半導體材料.請回答-下列問題:
(1)地殼里各種元素的含量(質量分數)如右圖所示,其中表示硅元素的是
B
B
(填字母).
(2)根據元素周期表可知,原子序數為6的碳原子和原子序數為14的硅原子最外層電子數均為4,則常溫下硅的化學性質
不活潑
不活潑
(選瑣“活潑”、“不活潑”).
(3)制備硅半導體材料必須先得到高純硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法.生產過程示意如下:

①整個制備過程必須達到無水無氧.在H2還原SiHCl3過程中若混入O2,可能引起的后果是
爆炸
爆炸

②在生產過程中物質A可循環使用,A的化學式是
HCl
HCl
;在生產過程中還有一種可循環使用的物質是
焦炭
焦炭

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科目:初中化學 來源: 題型:

從20世紀中葉開始,硅成了信息技術的關鍵材料,是目前應用最多的半導體材料.請回答下列問題:
(1)地殼里各種元素的含量(質量分數)如圖所示,其中表示硅元素的是
B
B
(填字母).
(2)根據元素周期表可知,原子序數為6的碳原子和原子序數為14的硅原子最外層電子數均為4,常溫下硅的化學性質
不活潑
不活潑
(選“活潑”、“不活潑”).

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科目:初中化學 來源: 題型:

(2012?沙縣質檢)地殼里各種元素的含量(質量分數)如圖所示,根據圖中信息回答:
(1)圖中顯示的元素中,屬于非金屬元素的有(用元素符號表示,只要寫一個):
O
O
;
(2)圖中顯示的金屬元素中,其金屬活動性由強到弱的順序是:
K、Ca、Na、Mg、Al、Fe
K、Ca、Na、Mg、Al、Fe
(用元素符號表示);
(3)限以圖中的元素為例,寫出符合下列要求的物質的化學式(各寫一個):
①氣態非金屬單質
O2
O2
,②氧化物
H2O
H2O
,③堿
NaOH
NaOH

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