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【題目】Si是重要的半導體材料,半導體工業中有一句行話“從沙灘到用戶”,指的是利用砂子(主要成分SiO2)制取高純度的Si,其生產流程如下:

(1)步驟②發生反應的反應類型為。
(2)步驟①產生的尾氣會污染空氣,該尾氣處理的方法是。
(3)步驟③中發生反應的化學方程式為。
(4)步驟②、③都需要注意防潮,可能的原因是 (填字母序號)。
A.硅能與水蒸氣反應
B.氫氣能與水蒸氣反應
C.SiCl4能與水蒸氣反應
D.氯化氫能與水蒸氣反應

【答案】
(1)化合
(2)點燃
(3)SiCl4 + 2H2 = Si + 4HCl
(4)C
【解析】(1)步驟②發生的反應是硅與氯氣反應生成氯化硅,反應物是兩種,生成物一種,屬化合反應;(2)步驟①產生的尾氣是一氧化碳,一氧化碳有毒,直接排放到空氣中會污染空氣,可通過點燃的方法除去;(3)步驟③中發生的反應是氯化硅和氫氣在高溫的條件下反應生成硅和氯化氫:SiCl4 + 2H2 = Si + 4HCl;(4)步驟②中的氯氣能與水反應,步驟③中的SiCl4能與水蒸氣反應,故要注意防潮。
故答案為:化合;點燃;SiCl4 + 2H2 = Si + 4HCl;C

化學反應“一邊多”化合反應,一氧化碳具有可燃性,因此點燃可以除去;四氯化硅和氫氣反應生成硅和氯化氫;根據題意可解答

練習冊系列答案
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稱量項目

所取樣品的質量/g

15

15

20

加入氯化鋇溶液的質量/g

150

100

100

反應后所得沉淀的質量/g

23.3

23.3

23.3

請回答下列問題:
(1)同學(選填“甲”“乙”或“丙”)所取用的樣品與氯化鋇溶液恰好完全反應.
(2)計算該樣品中硫酸鈉的質量分數.(寫出計算步驟,計算結果保留到0.1%)
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(2)你認為對氣體C最佳的處理方法是。( )
A.冷卻后排入空氣
B.燃燒后排放
C.再通入反應爐
(3)在生成K2SO4的這個反應中,相關物質的溶解度如下表。

物質

KCl

K2SO4

NH4Cl

(NH4)2SO4

溶解度/g(20℃)

34.2

11.1

37.2

75.4

你認為該反應在常溫下能實現的原因是。
(4)洗滌干燥得到K2SO4晶體時,可選用下列(填字母)洗滌劑;
A.KCl的飽和溶液 B.水 C.K2SO4的飽和溶液
為檢驗K2SO4晶體是否洗滌干凈,可取最后一次洗滌液,先加入(選填序號,下同),振蕩、靜置,再向上層清液中滴加 , 觀察現象即可判斷。(已知硫酸銀在水中微溶,以沉淀形式存在)
A.AgNO3溶液 B.過量的BaCl2溶液 C.過量的Ba(NO3)2溶液
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