【題目】H2O2俗稱雙氧水,醫療上常用3%的雙氧水進行傷口或耳炎消毒。下列關于H2O2的說法正確的是( 。
A. H2O2分子中含有氫離子
B. H2O2分子中既有離子鍵,又有共價鍵
C. H2O2屬于共價化合物
D. H2O2屬于H2和O2組成的混合
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【題目】在“HI(s) → HI(g) → H2和I2”的變化過程中,被破壞的作用力依次是
A. 分子間作用力、分子間作用力B. 分子間作用力、共價鍵
C. 共價鍵、離子鍵D. 共價鍵、共價鍵
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【題目】相等物質的量的CO和CO2的下列比較中正確的是()
所含的分子數目之比為1:1
所含的氧原子數目之比為1:1
所含的原子總數目之比為2:3
所含的碳原子數目之比為1:1
A. B. C. D.
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【題目】單晶硅是信息產業中重要的基礎材料。通常用焦炭在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硼、磷等雜質),粗硅與氯氣反應生成四氯化硅(反應溫度450~500℃),四氯化硅經提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實驗室制備四氯化硅的裝置示意圖。
相關信息如下:
a.四氯化硅遇水極易水解;
b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應生成相應的氯化物;
c.有關物質的物理常數見下表:
物 質 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
沸點/℃ | 57.7 | 12.8 | - | 315 | - |
熔點/℃ | -70.0 | -107.2 | - | - | - |
升華溫度/℃ | - | - | 180 | 300 | 162 |
請回答下列問題:
(1)寫出裝置A中發生反應的離子方程式。
(2)裝置A中g管的作用是;裝置C中的試劑是;裝置E中的h瓶需要冷卻的理由是。
(3)裝置E中h瓶收集到的粗產物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質元素是(填寫元素符號)。
(4)為了分析殘留物中鐵元素的含量,先將殘留物預處理,使鐵元素還原成
Fe2+ , 再用KMnO4標準溶液在酸性條件下進行氧化還原滴定,反應的離子方程式是:5Fe2++MnO4-+8H+=5Fe3++Mn2++4H2O
①滴定前是否要滴加指示劑?(填“是”或“否”),請說明理由。
②某同學稱取5.000g殘留物,經預處理后在容量瓶中配制成100mL溶液,移取25.00mL試樣溶液,用1.000×10-2mol·L-1KMnO4標準溶液滴定。達到滴定終點時,消耗標準溶液20.00mL,則殘留物中鐵元素的質量分數是。
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【題目】現有一種以黃銅礦和硫磺為原料制取銅和其他產物的新工藝,原料的綜合利用率較高.其主要流程如圖:
注:反應Ⅱ的離子方程式為Cu2++CuS+4Cl﹣=2[CuCl2]﹣+S↓
請回答下列問題:
(1)反應Ⅲ中的CuCl2﹣中銅元素的化合價為 , 傳統工藝制銅是將銅礦砂與空氣在高溫下煅燒,使這種方
法的缺點是要消耗大量的熱能以及(完成合理的一種即可).
(2)為使反應Ⅰ中充分進行,工業可采取的措施是 , 反應Ⅰ生成12gFeS2轉移的電子數為 .
(3)反應Ⅲ的離子方程式為 , 一定溫度下,在反應Ⅲ所得的溶液中加入稀硫酸,可以析出硫酸銅晶
體,其可能的原因是 .
(4)工業上煉鋼時,可將鐵紅投入熔融的生鐵中,煉鋼時為了降低含碳量,該過程中主要反應的化學方程
式是 . 工業上可以用NaOH溶液或氨水吸收過量的SO2 , 分別生成NaHSO3、NH4HSO3 , 其水溶液均
呈酸性,相同條件下,同濃度的兩種水溶液中c(SO32﹣)較小的是 .
(5)某硫酸廠為測定反應Ⅳ所得氣體中SO2的體積分數,取280mL(已折算成標準狀況)氣體樣品與足量
Fe2(SO4)3溶液完全反應后,用濃度為0.02000molL﹣1的K2Cr2O7標準溶液滴定至終點,消耗K2Cr2O7溶液25.00mL,已知Cr2O72﹣+Fe2++H+→Cr3++Fe3++H2O(未配平)反應Ⅳ所得氣體中SO2的體積分數為 .
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【題目】金屬鉻和氫氣在工業上都有重要的用途.已知:鉻能與稀硫酸反應,生成氫氣和硫酸亞鉻(CrSO4).銅鉻構成原電池如圖所示,鹽橋中裝的是飽和KCl瓊脂溶液,下列關于此電池的說法正確的是( )
A.鹽橋的作用是使整個裝置構成通路、保持溶液呈電中性,凡是有鹽橋的原電池,鹽橋中均可以用飽和KCl瓊脂溶液
B.理論上1molCr溶解,鹽橋中將有2molCl﹣進入左池,2molK+進入右池
C.此過程中H+得電子,發生氧化反應
D.電子從鉻極通過導線到銅極,又通過鹽橋到轉移到左燒杯中
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