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【題目】如圖是部分短周期元素原子半徑與原子序數的關系圖。則下列說法正確的是( )

A. Z、N兩種元素的離子半徑相比,前者較大

B. X、N兩種元素的氣態氫化物的穩定性相比,前者較弱

C. XM兩種元素組成的化合物不能與任何酸反應,但能與強堿反應

D. Z的氧化物能分別溶解于Y的氫氧化物和N的氫化物的水溶液

【答案】D

【解析】試題分析:同周期從左到右原子半徑減小,同主族元素從上而下原子半徑增大,故前7種元素處于第二周期,后7中元素處于第三周期,由原子序數可知,X為氧元素,Y為鈉元素,Z為鋁元素,M為硅元素,N為硫元素,N為氯元素。A、Z、N兩種元素的離子分別為鈉離子和氯離子,最外層電子數相同,電子層越多離子半徑越大,故離子半徑鈉離子小于氯離子,A錯誤;B、非金屬性氧大于氯,非金屬性越強氫化物越穩定,故穩定性水大于氯化氫,B錯誤;C、由XM兩種元素組成的化合物是二氧化硅,能與氫氟酸反應,C錯誤;D、氧化鋁是良性氧化物,能與氫氧化鈉反應生成偏鋁算鈉,能與鹽酸反應生成氯化鋁,D正確;答案選D。

練習冊系列答案
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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】右圖是一個化學過程的示意圖。已知甲池的總反應式為:

2CH3OH+3O2+4KOH=2K2CO3+6H2O

(1)請回答圖中甲、乙兩池的名稱。甲電池是 裝置,乙池是 裝置。

(2)請回答下列電極的名稱:通入CH3OH的電極名稱是 ,B(石墨)電極的名稱是 。

(3)寫出電極反應式:

通入O2的電極的電極反應式是

A(Fe)電極的電極反應式為 。

(4)乙池中反應的化學方程式為 。

(5)當乙池中A(Fe)極的質量增加5.40g時,甲池中理論上消耗O2 mL(標況)

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】右圖三條曲線表示C、SiP元素的四級電離能變化趨勢。下列說法正確的是( )

A. 電負性:c>b>a B. 最簡單氫化物的穩定性:c>a>b

C. I5a>c>b D. 最簡單氫化物的沸點:a>b>c

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】填空

(1)按要求完成下列問題:

①甲基的電子式___________。

②寫出制備TNT的化學反應方程式___________。

③反式2一丁烯的結構簡式___________

2下列括號內的物質為雜質,將除去下列各組混合物中雜質所需的試劑填寫在橫線上:

乙酸乙酯(乙醇)________;甲苯()________;

3)下列鹵代烴既能發生消去反應生成烯烴,又能發生水解反應生成醇的是

4)實驗室用純溴和苯反應制取溴苯,得到粗溴苯后,要用如下操作進行提純:蒸餾 水洗 用干燥劑干燥 ④10%NaOH溶液洗正確的操作順序是 。

(5)某高聚物的結構式如圖: 其單體的名稱為

6)某有機物的結構簡式為據此填寫下列空格。

該物質苯環上一氯代物有________種;

②1mol該物質和溴水混合,消耗Br2的物質的量為________mol

③1mol該物質和H2加成需H2________mol;

7與等物質的量的Br2發生加成反應,生成的產物是

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】硅單質及其化合物應用范圍廣。請回答下列問題:

(1)制備硅半導體材料必須先得到高醇硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法.生產過程示意圖如下:

①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式

②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、H2和另一種物質。寫出配平的化學反應方程式 ;H2還原SiHCl3過程中若混O2,可能引起的后果是

(2)下列有關硅材料的說法正確的是 (填字母)。

A高純度的硅,可用于生產光電池,將光能直接轉換為電能

B氮化硅硬度大.熔點高.可用于制作高溫陶瓷和軸承

C高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料----光導纖維

D普通玻璃是由純堿.石灰石和石英砂制成的

E.鹽酸可以與硅反應.故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃,取少量硅酸鈉溶液于試管中逐滴加入飽和氯化銨溶液,振蕩。寫出實驗現象并給予解釋 。

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】【有機選做】有機物DBP常用作纖維素樹脂和聚氯乙烯的增塑劑,特別適用于硝酸纖維素涂料。具有優良的溶解性、分散性和粘著性。由有機物A和鄰二甲苯為原料可以合成DBP。

烴A是有機合成的重要原料。A的質譜圖最大m/z為42,紅外光譜表明分子中含有碳碳雙鍵;B能發生銀鏡反應;有機物C的核磁共振氫譜顯示其分子中含有5種化學環境不同的氫原子,且個數之比為3:2:2:2:l。

回答下列問題:

1A的結構簡式為________;A在一定條件下生成聚合物的化學方程式為_______________。

2D中的含氧官能團是___________。有機物D和足量有機物C反應生成DBP的化學方程式是____________________________________________。

3下列說法正確的是___________ 選填序號字母

A.A能發生聚合反應、加成反應和氧化反應

B.與C互為同分異構體,且含有相同官能團的有機物有2種

C.鄰二甲苯能氧化生成D說明有機物分子中基團之間存在影響

D.1 mol DBP可與含4mol NaOH的溶液完全反應

4工業上常用有機物EC8H4O3代替D生產DBP。反應分為兩步進行:

iE+C中間產物 ii中間產物+C DBP+H2O

請猜測E的結構簡式___________。[

工業上生產有機物E的反應如下:2X+9O22E+4CO2+4H2O,芳香烴X的一溴代物只有兩種。X的結構簡式是________。

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】A、B、CD四種元素,原子序數依次增大,A原子的最外層上有4個電子;B的陰離子和C的陽離子具有相同的電子層結構,兩元素的單質反應,生成一種淡黃色的固體E,DL層電子數等于K、M兩個電子層上的電子數之和。

1A ,B ,C 。D的最高價氧化物的水化物是

2)寫出A、B的化合物與E反應的化學方程式: 。

3A、B兩元素形成化合物屬 (填離子共價)化合物。

4)寫出D的最高價氧化物的水化物和A反應的化學方程式: 。

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】W結構中含有三個六元環,是一種新型香料的主要成分之一。W的合成路線如下(部分產物和部分反應條件略去)

已知:①RCH===CH2CH2===CHR′CH2===CH2RCH===CHR′

②B中核磁共振氫譜圖顯示分子中有6種不同環境的氫原子

③DH是同系物

請回答下列問題:

1G分子中含有的官能團名稱是

2A→B反應過程中涉及的反應類型有 、 。

3W的結構簡式為

4B→C的化學方程式為 ;由D生成高分子化合物的方程式為 。[

5同時滿足下列條件的F的同分異構體有 (不包括立體異構)

能發生銀鏡反應;能發生水解反應。

其中核磁共振氫譜為5組峰的為 (寫結構簡式),其峰面積之比為 。

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科目:高中化學 來源: 題型:

【題目】固定和利用CO2能有效地利用資源,并減少空氣中的溫室氣體。工業上有一種用CO來生產甲醇燃料的方法: CO2(g)+3H2(g)CH3OH(g)+H2O(g)。某科學實驗將6molCO2和8molH2充入2L的密閉容器中,測得H2的物質的量隨時間變化如圖實線所示a,b,c,d括號內數據表示坐標。

(1)0-a,a-b,b-c,c-d四段中,平均反應速率最大的時間段是 ,該時間段內H2的平均反應速率是 。

(2)a點正反應速率_______(填大于、等于或小于)逆反應速率。

(3)平衡時CO2的轉化率是 ;反應前后容器內的壓強比是 。

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