光刻膠是大規模集成電路.印刷電路板和激光制版技術中的關鍵材料.某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變為B. A B ⑴請寫出A中含有的官能團 . ⑵A經光照固化轉變為B.發生了 反應. ⑶寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式 . ⑷寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式 . 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

光刻膠是大規模集成電路、印刷電路板和激光制版技術中的關鍵材料.某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變為B.

(1)請指出A中含有的官能團名稱
酯基、碳碳雙鍵
酯基、碳碳雙鍵
(填兩種).
(2)A經光照固化轉變為B,發生了
加成
加成
反應(填反應類型).
(3)寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式

(4)寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式
C18H16O4
C18H16O4

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光刻膠是大規模集成電路、印刷電路板和激光制版技術中的關鍵材料。某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變為B。

(1)請指出A中含有的官能團_________(填兩種)。

(2)A經光照固化轉變為B,發生了_________反應(填反應類型)。

(3)寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式________________________。

(4)寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式____________。

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光刻膠是大規模集成電路、印刷電路板和激光制版技術中的關鍵材料。某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變為B。

(1)請指出A中含有的官能團(填兩種)。

(2)A經光照固化轉變為B,發生了_______________反應(填反應類型)。

(3)寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式____________________________________。

(4)寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式_______________________。

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22.光刻膠是大規模集成電路、印刷電路板和激光制版技術中的關鍵材料。某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變為B。

⑴請寫出A中含有的官能團_______________(填兩種)。

⑵A經光照固化轉變為B,發生了___________反應(填反應類型)。

⑶寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式______________________________。

⑷寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式_______________。

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光刻膠是大規模集成電路、印刷電路板和激光制版技術中的關鍵材料。某一肉桂酸型光刻膠的主要成分A經光照固化轉變為B。

(1)請寫出A中含有的官能團_____________(填兩種)。

(2)A經光照固化轉變為B,發生了__________反應(填反應類型)。

(3)寫出A與NaOH溶液反應的化學方程式________________________________________。

(4)寫出B在酸性條件下水解得到的芳香族化合物的分子式___________________________。

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