（2013?湛江二模）高爐煉鐵是冶煉鐵的主要方法．
（1）從煉鐵高爐口排出的尾氣中含有一定量的有毒氣體（填化學式），會污染空氣．100多年前，人們曾耗巨資改建高爐，結果尾氣中的該物質含量并未減少．高爐煉鐵的主要反應方程式為（設鐵礦石用磁鐵礦）．
（2）已知：①4Fe（s）+3O₂=2Fe₂O₃（s）△H₁
②4Fe₃O₄（s）+O₂（g）=6Fe₂O₃（s）△H₂
③3Fe（s）+2O₂（g）=Fe₃O₄（s）△H₃
則△H₂=（用含上述△H的代數式表示）．
（3）高鐵酸鈉（Na₂FeO₄）是鐵的一種重要化合物，可用電解法制備，陽極材料為鐵，其電解質溶液應選用 （填H₂SO₄、HNO₃、KOH、NaOH、Na₂SO₄）溶液，原因是，陽極反應式為．
（4）某溫度下，HX的電離平衡常數K為1×10^-5．計算該溫度下0.100mol/L的HX溶液的     H⁺濃度．（平衡時HX的濃度以0.100mol/L計，水的電離忽略不計，寫出計算過程．）

（2011?順義區二模）X、Y、Z是中學化學常見的三種元素，其中，X、Z位于短周期．常溫下，X單質為黃綠色氣體；向含Y離子的溶液中滴加氫氧化鈉溶液，生成白色絮狀沉淀，迅速變為灰綠色，最后變為紅褐色；Z的最外層電子數與核外電子總數之比為3：13．請回答下列問題：
（1）Z在元素周期表中的位置是，X單質分子的電子式是．
（2）Z單質與Y的氧化物在高溫條件下反應是冶煉Y單質的一種方法，該反應化學方程式是．
（3）含上述元素的某些物質常用于處理工業廢水，部分流程如圖1：
①處理含鉻廢水時，在反應池中Cr₂O₇^2-變為Cr³⁺，當反應轉移1mol 電子時，有 mol  Cr₂O₇^2- 轉化（計算結果保留兩位小數）．
②含Z化合物可以使水中懸浮顆粒發生凝聚，原因是（用文字和化學用語表示）．
③處理含氰廢水時，CN^-最終轉化為兩種無毒的氣體，該反應的離子方程式是．
（4）利用圖2方法電解可得到一種新型凈水劑K₂YO₄，陽極的電極反應式為．

（2012?長寧區一模）Ⅰ．工業上電解飽和食鹽能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅．
（1）原料粗鹽中常含有泥沙和Ca²⁺、Mg²⁺、Fe³⁺、SO₄^2-等雜質，必須精制后才能供電解使用．精制時，粗鹽溶于水過濾后，還要加入的試劑分別為①Na₂CO₃、②HCl（鹽酸）③BaCl₂，這3種試劑添加的合理順序是（填序號）洗滌除去NaCl晶體表面附帶的少量KCl，選用的試劑為．（填序號）（①飽和Na₂CO₃溶液  ②飽和K₂CO₃溶液  ③75%乙醇　④四氯化碳）
（2）如圖是離子交換膜（允許鈉離子通過，不允許氫氧根與氯離子通過）法電解飽和食鹽水示意圖，電解槽陽極產生的氣體是；NaOH溶液的出口為（填字母）；精制飽和食鹽水的進口為（填字母）；干燥塔中應使用的液體是．

Ⅱ．多晶硅主要采用SiHCl₃還原工藝生產，其副產物SiCl₄的綜合利用受到廣泛關注．
（1）SiCl₄可制氣相白炭黑（與光導纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl₄與H₂和O₂反應，產物有兩種，化學方程式為．
（2）SiCl₄可轉化為SiHCl₃而循環使用．一定條件下，在20L恒容密閉容器中的反應：
3SiCl₄（g）+2H₂（g）+Si（s）?4SiHCl₃（g）
達平衡后，H₂與SiHCl₃物質的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H₂全部來源于離子交換膜法的電解產物，理論上需消耗純NaCl的質量為kg．
（3）實驗室制備H₂和Cl₂通常采用下列反應：
Zn+H₂SO₄→ZnSO₄+H₂↑；MnO₂+4HCl（濃）

△

MnCl₂+Cl₂↑+2H₂O
據此，從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H₂的裝置（填代號）和制備并收集干燥、純凈Cl₂的裝置（填代號）．
可選用制備氣體的裝置：

（4）采用無膜電解槽電解飽和食鹽水，可制取氯酸鈉，同時生成氫氣，現制得氯酸鈉213.0kg，則生成氫氣m³（標準狀況）．（忽略可能存在的其他反應）
某工廠生產硼砂過程中產生的固體廢料，主要含有MgCO₃、MgSiO₃、CaMg（CO₃）₂、Al₂O₃和Fe₂O₃等，回收其中鎂的工藝流程如下：

沉淀物	Fe（OH）3	Al（OH）3	Mg（OH）2
PH	3.2	5.2	12.4

Ⅲ．部分陽離子以氫氧化物形式完全沉淀時溶液的pH見上表，請回答下列問題：
（1）“浸出”步驟中，為提高鎂的浸出率，可采取的措施有（要求寫出兩條）．
（2）濾渣I的主要成分是．
Mg（ClO₃）₂在農業上可用作脫葉劑、催熟劑，可采用復分解反應制備：
MgCl₂+2NaClO₃→Mg（ClO₃）₂+2NaCl
已知四種化合物的溶解度（S）隨溫度（T）變化曲線如圖所示：

（3）將反應物按化學反應方程式計量數比混合制備Mg（ClO₃）₂．簡述可制備Mg（ClO₃）₂的原因：．
（4）按題（3）中條件進行制備實驗．在冷卻降溫析出Mg（ClO₃）₂過程中，常伴有NaCl析出，原因是：．除去產品中該雜質的方法是：．

右圖是鐵粉和水蒸氣反應的實驗裝置示意圖
（1）寫出該反應的化學方程式
（2）實驗中，D處排出的氣體幾乎點不著，已知該裝置不漏氣，使用的各種藥品沒有質量問題，你認為氣體點不著的可能原因是（說出一點即可）：．

寫出下列反應的化學方程式
（1）Al與NaOH溶液反應：
（2）Na₂O₂與CO₂反應：
（3）寫出鐵與水蒸氣反應的化學方程式
（4）寫出碳酸鈉水解的離子方程式
（5）苯與溴反應的化學方程式，反應類型．