工業上電解飽和食鹽能制取多種化工原料.其中部分原料可用于制備多晶硅. (1)題26圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖.電解槽陽極產生的氣體是 ,NaOH溶液的出口為 ,精制飽和食鹽水的進口為 ,干燥塔中應使用的液體是 . (2)多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產.其副產物SiCl4的綜合利用收到廣泛關注. ①SiCl4可制氣相白炭黑(與光導纖維主要原料相同).方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應.產物有兩種.化學方程式為 . ②SiCl4可轉化為SiHCl3而循環使用.一定條件下.在20L恒容密閉容器中的反應: 3 SiCl4(g)+2H24SiHCl3(g) 達平衡后.H2與SiHCl3物質的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L.若H2全部來源于離子交換膜法的電解產物.理論上需消耗純NaCl的質量為 kg. (3)采用無膜電解槽電解飽和食鹽水.可制取氯酸鈉.同時生成氫氣.現制得氯酸鈉213.0kg.則生成氫氣 . 答案(1)①氯氣,a,d,濃硫酸(2)①SiCl4+2H2+O2SiO2+4HCl②0.35(3)134.4 [解析](1)電解飽和食鹽時陽極陰離子Cl-.OH-放電.Cl-的放電能力強于OH-.陽極發生的方程式為:2Cl--2e-===Cl2↑,陰極:2H++2e-===H2↑,總反應為:2NaCl+2H2OCl2↑+H2↑+2NaOH.H2.2NaOH在陰極.NaOH溶液的出口為a.Cl2在陽極.精制飽和食鹽水從陽極進入.選d,要干燥Cl2需要用酸性干燥劑H2SO4或P2O5等.中性干燥劑無水CaCl2.(2)①SiCl4與H2和O2反應.產物有兩種.光導纖維的主要成分是SiO2.H.Cl元素必在另一產物中.H.Cl元素結合成HCl.然后配平即可.發生的化學方程式為:SiCl4+2H2+O2SiO2+4HCl.② 由3 SiCl4(g)+2H24SiHCl3(g) 起始量(mol) n 0 變化量(mol) 3x 2x x 4x 平衡量(mol) n-2x 4x 4x=0.020mol/L×20L=0.4mol.n-2x=0.140mol/L20L=2.8mol.n=3.0mol.由2NaCl+2H2OCl2↑+H2↑+2NaOH.g:1mol=m=351g=0.351kg. (3)由NaCl轉化為NaClO3.失去電子數為6.H2O轉化為H2.得到的電子數為2.設產生的H2體積為V.由得失電子守恒有:6×,V=134.4m3. [考點分析]本題考查電解.氯堿工業.化學平衡的計算.化學方程式書寫.化學計算等知識. 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

(14分)工業上電解飽和食鹽能制取多種化工原料,其中部分原料可用于制備多晶硅。

(1)題26圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖,電解槽陽極產生的氣體是     ;NaOH溶液的出口為       (填字母);精制飽和食鹽水的進口為       (填字母);干燥塔中應使用的液體是      。

(2)多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產,其副產物SiCl4的綜合利用收到廣泛關注。

①SiCl4可制氣相白炭黑(與光導纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應,產物有兩種,化學方程式為                                     。

②SiCl4可轉化為SiHCl3而循環使用。一定條件下,在20L恒容密閉容器中的反應:

   3 SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)4SiHCl3(g)

達平衡后,H2與SiHCl3物質的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部來源于離子交換膜法的電解產物,理論上需消耗純NaCl的質量為   kg。

(3)采用無膜電解槽電解飽和食鹽水,可制取氯酸鈉,同時生成氫氣,現制得氯酸鈉213.0kg,則生成氫氣      (標準狀況)。

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工業上電解飽和食鹽能制取多種化工原料,其中部分原料可用于制備多晶硅。

(1)題26圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖,電解槽陽極產生的氣體是     ;NaOH溶液的出口為       (填字母);精制飽和食鹽水的進口為       (填字母);干燥塔中應使用的液體是     

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(2)多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產,其副產物SiCl4的綜合利用收到廣泛關注。

①SiCl4可制氣相白炭黑(與光導纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應,產物有兩種,化學方程式為                                     。

②SiCl4可轉化為SiHCl3而循環使用。一定條件下,在20L恒容密閉容器中的反應:

   3 SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)高考資源網( www.ks5u.com),中國最大的高考網站,您身邊的高考專家。4SiHCl3(g)

達平衡后,H2與SiHCl3物質的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部來源于離子交換膜法的電解產物,理論上需消耗純NaCl的質量為   kg。

(3)采用無膜電解槽電解飽和食鹽水,可制取氯酸鈉,同時生成氫氣,現制得氯酸鈉213.0kg,則生成氫氣      (標準狀況)。

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工業上電解飽和食鹽能制取多種化工原料,其中部分原料可用于制備多晶硅。

(1)題26圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖,電解槽陽極產生的氣體是     ;NaOH溶液的出口為       (填字母);精制飽和食鹽水的進口為       (填字母);干燥塔中應使用的液體是      。

(2)多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產,其副產物SiCl4的綜合利用收到廣泛關注。

①SiCl4可制氣相白炭黑(與光導纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應,產物有兩種,化學方程式為                                     。

②SiCl4可轉化為SiHCl3而循環使用。一定條件下,在20L恒容密閉容器中的反應:

   3 SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)4SiHCl3(g)

達平衡后,H2與SiHCl3物質的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部來源于離子交換膜法的電解產物,理論上需消耗純NaCl的質量為   kg。

(3)采用無膜電解槽電解飽和食鹽水,可制取氯酸鈉,同時生成氫氣,現制得氯酸鈉213.0kg,則生成氫氣      (標準狀況)。

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工業上電解飽和食鹽能制取多種化工原料,其中部分原料可用于制備多晶硅。

(1)題26圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖,電解槽陽極產生的氣體是     ;NaOH溶液的出口為       (填字母);精制飽和食鹽水的進口為       (填字母);干燥塔中應使用的液體是     

(2)多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產,其副產物SiCl4的綜合利用收到廣泛關注。

①SiCl4可制氣相白炭黑(與光導纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應,產物有兩種,化學方程式為                                     。

②SiCl4可轉化為SiHCl3而循環使用。一定條件下,在20L恒容密閉容器中的反應:

   3 SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)4SiHCl3(g)

達平衡后,H2與SiHCl3物質的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部來源于離子交換膜法的電解產物,理論上需消耗純NaCl的質量為   kg。

(3)采用無膜電解槽電解飽和食鹽水,可制取氯酸鈉,同時生成氫氣,現制得氯酸鈉213.0kg,則生成氫氣      (標準狀況)。

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(12分)工業上電解飽和食鹽能制取多種化工原料,其中部分原料可用于制備多晶硅。

(1)下圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖,電解槽陽極產生的氣體是     ;NaOH溶液的出口為       (填字母);精制飽和食鹽水的進口為       (填字母);干燥塔中應使用的液體是      。

(2)多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產,其副產物SiCl4的綜合利用受到廣泛關注。

① SiCl4可制氣相白炭黑(與光導纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應,產物有兩種,化學方程式為                       。

② SiCl4可轉化為SiHCl3而循環使用。一定條件下,在20L恒容密閉容器中的反應:

   3 SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)4SiHCl3(g)

達平衡后,H2與SiHCl3物質的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L,若H2全部來源于離子交換膜法的電解產物,理論上需消耗純NaCl的質量為  ______kg。

(3)采用無膜電解槽電解飽和食鹽水,可制取氯酸鈉,同時生成氫氣,現制得氯酸鈉213.0kg,則生成氫氣     (標準狀況)。

 

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