題目列表(包括答案和解析)
水不僅是生命之源，而且飲用水的質量問題已經日益受到人們的關注！清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學清洗的主要目的是除去硅片表面雜質（如某些有機物，無機鹽，金屬、Si、SiO2粉塵等）。常用的化學清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH、Na2SiO3等混合溶液在75～90℃反應25～35 min，效果良好�；卮鹣铝袉栴}
Ⅰ.（1）寫出晶片制絨反應的離子方程式 ，對單晶制絨1990年化學家Seidel提出了一種的電化學模型，他指出Si與NaOH溶液的反應，首先是Si與OH一反應，生成SiO44一，然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4�；诖嗽矸治龇磻醒趸瘎� 。
（2）本�；瘜W興趣小組同學，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：
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實驗事實 |
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事實一 |
水蒸汽在600℃時可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。 |
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事實二 |
盛放于鉑或石英器皿中的純水長時間對粉末狀還原硅無腐蝕作用。 |
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事實三 |
普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。 |
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事實四 |
在野外環境里，用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH，點著后燜燒，可劇烈放出H2。 |
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事實五 |
1g（0.036mo1）Si和20mL含有lgNaOH（0.025mol）的溶液，小心加熱（稍微預熱），收集到約1700mL H2，很接近理論值（1600mL）。 |
結論：從實驗上說明堿性水溶液條件下，H2O可作 劑；NaOH作_____ 劑，降低反應 。高溫無水環境下，NaOH作 劑。
Ⅱ.在工業中利用鎂制取硅：2Mg＋SiO2
2MgO＋Si，同時有副反應發生：2Mg＋SiMg2Si，Mg2Si遇鹽酸迅速反應生成SiH4(硅烷)，SiH4在常溫下是一種不穩定、易分解的氣體。如圖是進行Mg與SiO2反應的實驗裝置：
由于氧氣的存在對該實驗有較大影響，實驗中應通入氣體X作為保護氣，試管中的固體藥品可選用________(填序號)。 a．石灰石 b．鋅�！ ．純堿
（4）實驗開始時，必須先通入X氣體，再加熱反應物，其理由是______________________________，當反應開始后，移走酒精燈反應能繼續進行，其原因是___________________________。
（5）反應結束后，待冷卻至常溫時，往反應后的混合物中加入稀鹽酸。可觀察到閃亮的火星，產生此現象的原因用化學方程式表示為_______________________________________。
清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學清洗的主要目的是除去硅片表面雜質（如某些有機物，無機鹽，金屬、Si、SiO2粉塵等）。常用的化學清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH、Na2SiO3等混合溶液在75～90℃反應25～35 min，效果良好�；卮鹣铝袉栴}
Ⅰ.（1）寫出晶片制絨反應的離子方程式 ，對單晶制絨1990年化學家Seidel提出了一種的電化學模型，他指出Si與NaOH溶液的反應，首先是Si與OH一反應，生成SiO44一，然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4�；诖嗽矸治龇磻醒趸瘎� 。
（2）本�；瘜W興趣小組同學，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：
| | 實驗事實 |
| 事實一 | 水蒸汽在600℃時可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。 |
| 事實二 | 盛放于鉑或石英器皿中的純水長時間對粉末狀還原硅無腐蝕作用。 |
| 事實三 | 普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。 |
| 事實四 | 在野外環境里，用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH，點著后燜燒，可劇烈放出H2。 |
| 事實五 | 1g（0.036mo1）Si和20mL含有lgNaOH（0.025mol）的溶液，小心加熱（稍微預熱），收集到約1700mL H2，很接近理論值（1600mL）。 |
2MgO＋Si，同時有副反應發生：2Mg＋SiMg2Si，Mg2Si遇鹽酸迅速反應生成SiH4(硅烷)，SiH4在常溫下是一種不穩定、易分解的氣體。如圖是進行Mg與SiO2反應的實驗裝置：
1．D 2．C 3．C 4．B 5．C 6．C 7．BC 8．BD 9．AC 10．D 11．C
12．BD 13．AC 14．A 15．B 16．D 17．B 18．D 19．B 20．D
21．D 22．C w.w.w.k.s.5.u.c.o.m
23．（1）促進，A�。�2）甲大
乙用氯化銨溶液稀釋后，［
］增大很多，使
的電離平衡向抑制電離的方向移動；發生水解，使稀釋后的乙溶液的［
］增大
24．（1）第一種組合 A：NaOH B：
第二種組合 A：
B：
�。�2）由于電離出，使水的電離平衡：
向左移動，使水的電離度小于純水中水的電離度，而溶液中由于
由于電離出的
與結合生成弱電解質，從而促進水的電離，使水的電離度比純水中的大．
25．（1）偏高；空氣中的氧氣溶于樣品中
�。�2）偏高；使
溶液濃度變低，消耗體積偏大
�。�3）偏高；使最后讀取體積數比實際消耗溶液體積數大
（4）
26．（1）增大w.w.w.k.s.5.u.c.o.m
�。�2）K值越大，酸性越強
�。�3）
�。�4）
上一級電離產生的對下一級電離有抑制作用
�。�5）
27．（1）
和
水解均呈弱酸性，可除去金屬表面的氧化物
�。�2）
水溶液中［
］很小，不會生成沉淀（或弱酸不能生成強酸）．加入氨水時，
，使
電離平衡右移，［］增大，產生沉淀（或與生成
，使［］增大
�。�3）在HCl氣流中，抑制
水解，從而可得到
無水物
�。�4）能．
，降低［］，其水解平衡左移，堿性減弱
�。�5）
水解呈堿性，水解呈酸性，二者混合施用，會促進水解，大量生成易揮發的，從而使氮肥降低肥效
電離呈酸性，與混合施用，會產生
或
沉淀而喪失肥效．
硫銨（即硫酸銨）水解呈酸性，長期施用土壤會板結酸化，加消石灰可調節酸度，防止板結．
28．（1）造成測定數值偏高w.w.w.k.s.5.u.c.o.m
�。�2）
�。�3）
29．（1）
；、
�。�2）1.90 2.67 5.20
�。�3）130
分析：（1）因為在濁液中加入HCl溶液至10 mL，沉淀質量一直為
形式存在，繼續加入HCl溶液，轉變為沉淀，加至30 mL時，全部轉變為，所以在A點的沉淀物為，在A至B點間，沉淀物為和的混合物．當加入的HCl溶液超過30 mL時，和同時溶解．w.w.w.k.s.5.u.c.o.m
（2）原混合物中：
的質量
的質量
NaOH：
�、贊嵋褐写嬖诘模�
1×0.01 mol
�、�
消耗的：
�、�
消耗的：
0.02 mol×4＝0.08 mol
NaOH總質量
�。�3）從B點開始，
消耗的HCl：0.02 mol×3＝0.06 mol
消耗的HCl：0.02 mol×2＝0.04 mol
所消耗HCl溶液的體積為：
Q點HCl溶液總量為：30 mL＋100 mL＝130 mL
30．（1）
�。�2）
根據 
過量
為：
20.00 mL水樣消耗為
根據得電子數目相等，則有
相當于
為：
，即該水樣的
（3）
�。�4）A，
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